光化學氧化技術屬于高級氧化工藝，是新興的現代水處理技術，該技術通過氧化劑（O3、H2O2等）在紫外（或可見）光的激發和催化劑(Fe2+、Fe3+ 、半導體等)的催化作用下，產生具有強氧化性的羥基自由基，羥基自由基的標準氧化電位達2.8eV，是除元素氟以外比較強的氧化劑，能無選擇地將絕大多數有機物徹底氧化成CO2、H2O和其它無機物，反應速度快，耗時短，反應條件溫和（常溫、常壓），操作條件易于控制，無二次污染。印染廢水中染料的顏色來源于染料分子的共扼體系—含不飽和基團-N=N-、-N=O等的發色體，光化學氧化產生的羥基自由基能夠有效打破共扼體系結構，使之變成無色的有機分子，并進一步礦化為H2O、CO2和其他無機物質。光化學氧化工藝上的特點和染料的分子結構特征決定了光化【污水處理設備】學氧化技術在印染廢水處理方面具有其他工藝所無可比擬的優勢。
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